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防反射薄膜生成液(Bottom/Anti-Reflective Coating, BARC/ARC)属于半导体光刻关键材料,全球市场高度集中,主要生产厂家以‌日本、美国及韩国‌企业为主,国内尚处于国产替代突破阶段。‌‌
国际主流供应商
‌日本企业‌:占据全球大部分市场份额,代表厂商包括‌JSR株式会社‌、‌信越化学(Shin-Etsu Chemical)‌、‌东京应化(TOK)‌、‌富士胶片(Fujifilm)‌及‌住友化学‌。这些企业提供多种波长(KrF、ArF、EUV)配套的防反射涂层材料。
‌美国企业‌:‌陶氏化学(Dow Chemical)‌(原杜邦光刻材料部门)和‌默克(Merck KGaA,旗下EMD Electronics)‌是核心供应商,技术覆盖先进制程。
‌韩国企业‌:‌SK Materials‌(原SK C&C材料部门)和‌东进世美肯(Toyo Advanced Technologies)‌在存储芯片用材料领域具有较强竞争力。‌‌
国内主要厂商(国产替代)
‌南大光电‌:已实现部分ArF光刻胶及配套防反射材料的量产与验证。
‌晶瑞电材‌:旗下苏州瑞红在光刻胶及辅助材料(含部分ARC材料)有布局。
‌上海新阳‌:专注于半导体清洗及电镀液,同时研发光刻胶及配套材料。
‌彤程新材‌(通过控股北京科华):国内KrF/ArF光刻胶龙头,具备配套防反射材料研发能力。 |
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