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发表于 2020-5-30 18:10:08
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弘芯定下研发14纳米制程和7纳米制程是有原因的。
研发7纳米制程,其实EUV光刻机并不是不可或缺的,当年台积电第一代7纳米技术就是通过浸液式光刻的多次图形曝光技术研发成功的。
后来只是为了降低成本、提高良品率,第二代7纳米技术才采用了EUV。
我记得当时三星准备用EUV时,业界还说它冒险,原文是这样的“台积电开初仍使用193i进行四重曝光(4P4E),夺取市场,然而到第二代7nm制程时,才会在部分Layer中使用EUV。而三星的7nm技术于2018年10月投入风险试产。与台积电不一样,三星不再采用浸液式光刻的多次图形曝光技术的7nm工艺,而是决定冒风险直接上马EUV技术,以示与台积电的差异化。三星将EUV用于7nm中的8-10层。”
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