深圳平湖25万平米高端制造设备产业用地即将出让给深圳某巨头！

摩天圳

作为由深圳市国资委全资控股的半导体装备企业，新凯来通过三年技术攻坚，成功突破外延生长、原子层沉积等 5 大关键工艺领域。其展台工作人员向记者透露，此次展出的设备均采用自主正向设计，核心零部件国产化率超 90%，部分技术指标已达国际先进水平。

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当半导体行业进入 "后摩尔时代"，新凯来的技术突破不仅改写了国产装备的历史，更重塑了全球半导体产业链的格局。从原子层沉积到 X 射线量测，从 14nm 到 3nm 制程覆盖，这家年轻的企业正以 "中国精度" 挑战国际巨头的技术壁垒。随着 SEMICON China 2025 展会的持续发酵，新凯来的故事或将成为中国半导体装备崛起的最佳注脚。

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行业分析师资深指出，新凯来的崛起标志着国产半导体装备从 "单点突破" 转向 "体系化攻坚"。其背后不仅有深圳国资的资本支持，更联合中科院半导体所、清华大学等科研机构，构建起 "产学研用" 协同创新体系。截至 2024 年底，公司已申请专利 127 项，其中发明专利占比超 60%。

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在光学检测领域，新凯来构建的 "源、路、探、算、台" 五大核心系统已实现全面突破。明场缺陷检测 BF1 搭载的深紫外激光光源，配合自研图像算法，可检出 0.1μm 以下的纳米级缺陷，检测灵敏度较传统设备提升 40%。该产品已在长江存储等头部企业完成量产验证，单台设备年检测晶圆超百万片。

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在半导体制造的 "心脏地带"，新凯来的技术突破尤为瞩目。以 ALD"阿里山" 原子层沉积设备为例，该设备采用独创的等离子体增强技术，可在 3nm 制程下实现原子级薄膜均匀性控制，其核心 LSP 光源亮度超越太阳光 10 倍，通过精密流场设计实现千小时稳定运行。这种从光源到检测的全系统创新，打破了日本企业在 ALD 领域的长期垄断。

摩天圳

设备国产化率已经超过90%，所以这些都可以公布于众大批量出货供应给客户了

摩天圳

先进工艺制程的晶圆生产线其薄膜设备，是美国严重对我国卡脖子的领域，甚至超过了光刻机，新凯来在14-3纳米工艺制程实现完全国产后，美国两大薄膜设备垄断巨头应用材料公司和泛林集团失去垄断地位和卡脖子能力，美国泛林、应用材料、东京电子、科磊等这些巨头感受到巨大压力。

十二

卧槽，有没有大佬证实一下

lfl2019

十二 发表于 2025-3-26 21:13
卧槽，有没有大佬证实一下

这么叼了吗，牛逼

摩天圳

十二 发表于 2025-3-26 21:13
卧槽，有没有大佬证实一下

https://m.weibo.cn/status/514850 ... weibocom#&video有视频为证错不了

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摩天圳 发表于 2025-3-26 22:23
https://m.weibo.cn/status/5148503892034286?jumpfrom=weibocom#&video有视频为证错不了

突然想起去年底隔壁那几个活跃分子在他们活跃的城市版里对XKL热潮冷风，说XKL是皮包公司。。。哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈。。。

希望他们继续做鸵鸟两手把耳朵捂的严严实实的。。。哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈。。。

xdx2022

深圳是国家科技突破的希望和脊梁，加油。

摩天圳

新凯来董事长在展会现场表示："这五大设备的成功研发，是公司多年技术积累的集中体现，也是国产半导体设备从跟跑到并跑的重要里程碑。我们将继续加大研发投入，力争在未来三年内实现更多关键设备的国产化替代。"这一表态彰显了中国半导体设备企业加速技术突破的决心。    “五座大山”塑大国芯底座，核心设备亮点解析 新凯来最新发布产品可分为两大类：一类是技术难度较高的光学量检测产品，比如：明场缺陷检测BFI、暗场缺陷检测DFI等。另一类是当时国内空白但产线必需的PX（物理和X射线）及功率检测产品，比如：X射线类XPS、XRD等。

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从客户反馈和实际运行表现来看，新凯来量检测产品能有效解决客户面临的痛点，满足产线需求。以第一台量测产品XPS为例，该产品在客户端已稳定运行近两万小时，关键性能指标均达成先进工艺客户的应用需求。下面是现场发布的五大设备的基本解读——①EPI“峨眉山”：针对外延沉积工艺，是先进制程（如3nm）和第三代半导体（碳化硅、氮化镓）的关键装备，打破应用材料（AMAT）、东京电子（TEL）的长期垄断。②ETCH“武夷山”：蚀刻设备对标AMAT的市场份额，用于芯片微观结构雕刻，精度达纳米级。     ③CVD“长白山”：化学气相沉积设备，突破东京电子在5nm以下制程的技术壁垒，支持高纯度薄膜沉积。 ④PVD“普陀山”：物理气相沉积设备，直面AMAT占据85%市场份额的PVD领域，实现国产替代零的突破。 ⑤ALD“阿里山”：原子层沉积设备，精度达原子级，瞄准5nm以下先进制程，与ASM、TEL形成竞争。 各代号对应 EPI（外延）、ETCH（蚀刻）、CVD（化学气相沉积）、PVD（物理气相沉积）、ALD（原子层沉积）等关键半导体工艺设备，或显示出其在半导体设备多技术领域布局和技术自信。这些产品一旦成功推向市场，预计将对国内半导体产业链的自主化和高端化发展产生一定影响。外延设备市场需求旺盛，尤其是在先进制程和第三代半导体（如SiC、GaN）领域。该设备的高性能和高稳定性非常重要，或将对国内半导体供应链的自主化起到重要推动作用。刻蚀设备的技术壁垒较高，目前主要由国际巨头（如Lam Research、AMAT）主导。正式发布，“武夷山”应该已经在精度、均匀性和效率上取得突破，这或将有助于打破国外垄断，提升国内刻蚀设备的竞争力。CVD设备是半导体制造中需求量最大的设备之一，如果“长白山”能够提供高效、稳定的解决方案，或将有助于满足国内对高端CVD设备的需求。PVD设备在先进制程和封装领域的重要性日益凸显，相信“普陀山”在薄膜附着力、均匀性和沉积速率方面已经获得验证，将为国内先进封装和互连技术的发展提供有力支持。道阻且长行则将至，必读的励志“芯”故事在亮相上海之前，新凯来就宣布已完成13类关键量检测产品开发，并在国内逻辑、存储和化合物的主要半导体制造企业开始量产应用。半导体量检测装备可细分为检测（Inspection）和量测（Metrology）两大类：检测是找出晶圆在不同工艺之后的各种类型缺陷，如颗粒污染、表面划伤、开短路等对芯片工艺性能具有不良影响的特征性结构缺陷；量测指对被观测的晶圆电路上的结构尺寸和材料特性做出的量化表征，如薄膜厚度、关键尺寸、刻蚀深度、表面形貌等物理性参数的量测。量检测是芯片研发和量产中的眼睛，对研发环节的工艺改进、量产爬坡中的良率提升和控制都至关重要。在整个前道装备中，量检测装备是国产化率最低的装备类别之一。由于国内半导体制造企业早期主要依赖于国外厂商提供高端量检测装备，在半导体装备的可获得性上陆续受限后，不仅装备本身，连运维都成为了关键瓶颈。量检测装备技术难度极高，售价也非常高昂，一台高端明场缺陷检测产品售价高达数百万至上千万美金，价值可见一斑。2021年之前，国内在量检测高端装备领域几乎是空白的，包括装备和对应的零部件、材料及工艺基础等都很薄弱。VLSI Research 携手 QY Research 的联合研究数据显示，该行业的 CR5 指数（代表行业内前五大企业市场份额总和的市场集中度指数）高达 82%。整个市场，排名靠前的五大装备供应商无一例外，皆来自欧美及日本。就是在这样的情况下，包括新凯来等在内的国内半导体装备企业开始发力。新凯来自成立之初就瞄准国内半导体制造企业的高端装备需求。2022年开始快速构建研发团队、组织行业资源，从客户需求到系统设计，从零部件开发到整机集成，3年潜心研发，硕果累累。业界认为，量检测装备之所以国产化进程缓慢、国产化率低，主要是由于技术难度大以及产线试错成本高。根据Yole的统计，工艺节点每缩减一代，工艺中产生的致命缺陷数量会增加50%，而最终芯片良率是累乘的结果。以先进工艺为例，只有保证每一道工序的良品率都超过99.98%，最终的良品率才可达到70%~80%。因此，作为产线良率担当的量检测装备，对其性能要求更是极高。量检测装备要求精度高、速度快，绝大部分核心技术的突破都是对物理极限的挑战。系统的设计仿真，零部件的性能，都对产品最终性能至关重要；尤其是核心零部件，是量检测装备国产化的关键瓶颈。十年磨一剑，三年时间新凯来就完成了全系列装备开发，正式登场证明已经满足逻辑、存储等半导体制造企业的需求，这为中国半导体产业健康发展带来新的改变。

摩天圳

https://m.toutiao.com/is/j05182uS3vM/ - 尘封观科技: 好消息，新凯来在上海半导体展会上透露，光刻设备已经搞定了 - 今日头条