深圳的新春大礼包来了！XKL公司公布了EUV光刻机LPP光源技术设备系统专利！

摩天圳

注意，2030年前EUV光刻机等所有生产制造7纳米以下芯片的设备都要实现全国产化

摩天圳

家知识产权局信息显示，深圳市新凯来工业机器有限公司取得一项名为“组合分离台及组合分离设备”的专利，授权公告号CN223987357U，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本公开的实施例提供了一种组合分离台及组合分离设备，涉及半导体技术领域，用于提高掩膜板的镀层的厚度的均一性。该组合分离台包括固定板、多个第一支撑结构、多个第二支撑结构。第一支撑结构包括第一支撑件和第一调节件。多个第一支撑件配置为支撑托盘；第一调节件被配置为调节第一支撑件和固定板之间的夹角。第二支撑结构包括第二支撑件和第二调节件。多个第二支撑件配置为支撑掩膜板；掩膜板位于托盘远离固定板的一侧，且与托盘具有间隙；第二支撑件和第一支撑件间隔设置；第二调节件与固定板和/或第二支撑件连接；第二调节件被配置为调节第二支撑件和固定板之间的夹角。上述组合分离台用于支撑掩膜板。

摩天圳

国家知识产权局信息显示，深圳市新凯来技术有限公司申请一项名为“分子泵及半导体设备”的专利，公开号CN121630768A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本申请涉及抽真空领域，公开了分子泵及半导体设备。分子泵包括外壳、电机和旋转体，电机包括电机壳体与转轴，旋转体包括安装于转轴的输出端并环绕电机壳体的基部，基部与电机壳体之间形成具敞口的套设间隙，电机壳体与基部中的至少一者朝向套设间隙的表面设有螺旋形延伸的一个或多个导气槽，电机壳体与基部中的至少一者朝向套设间隙的表面设有螺旋形延伸的一个或多个导气槽，每个导气槽包括沿延伸方向相对的起始端与终止端，起始端为导气槽靠近输出端的一端，终止端为远离输出端的一端，自起始端至终止端，导气槽同时沿第一方向与第二方向延伸。该分子泵可改善因引入保护气体可能导致的分子泵入口侧压力升高及真空度下降的问题。

摩天圳

国家知识产权局信息显示，深圳市新凯来工业机器有限公司申请一项名为“一种信号处理电路、光学系统及半导体设备”的专利，公开号CN121619036A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种信号处理电路、光学系统及半导体设备，涉及电路领域，信号处理电路包括信号调制器、光电探测器、锁相放大器和低通滤波器，信号调制器对光信号进行调制，并通过光电探测器将其转换为电信号输出至锁相放大器的信号输入端；同时信号调制器输出参考信号至锁相放大器的参考输入端，帮助其实现电信号的信号提取；低通滤波器设置在信号调制器和锁相放大器的参考输入端之间，能够对参考信号进行滤波处理，滤波处理之后参考信号的频率与电信号进行傅里叶变换后得到的频率一致；以使得锁相放大器能够基于滤波后的参考信号消减电信号中由于调制产生的奇次谐波分量，从而提取出目标光强信号，并提高整个光学系统的信噪比。

摩天圳

（恒运昌）成立12年来，逐步突破国外垄断，是半导体国产替代赛道的硬核企业，其等离子体射频电源系统在芯片制造中具有关键作用，已实现28纳米制程国产化，第三代产品Aspen系列可支撑7-14纳米先进制程，在国产厂商中市场份额第一，客户包括拓荆科技、中微公司等头部厂商。https://mp.weixin.qq.com/s/QOv5LYtln_1Bu9HGyJqDsg

摩天圳

3月17日，深圳市重点产业研发计划“IC制造中浅沟槽隔离及光刻掩膜版稀土抛光液关键技术研发”项目启动会在深圳创新总部基地成功举行。中国稀土集团创新科技有限公司领导詹伟、梁浩、贾江涛，深圳市科技创新局成果转化处副处长杨婉璐出席会议；此外，会议还邀请了高校、科研院所、产业界及财务领域多位专家，以及项目承担单位、参与单位骨干成员共三十余人参会，共同见证项目正式启动。
詹伟对各单位、专家出席项目启动会表示热烈欢迎与诚挚谢意。他表示该项目是面向集成电路关键材料自主可控这一国家战略需求的主动作为，旨在打通从基础研究到产业应用的完整链条，实现高端稀土抛光液的国产替代。
此次启动会的成功召开，标志着中稀研究院在集成电路关键材料领域又迈出坚实一步，将为加快突破高端稀土抛光液技术壁垒、助力半导体产业链自主可控注入强劲动能。