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 发表于 2020-4-28 22:00:46
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| 天下楚人 发表于 2020-4-28 19:58那个没办法量产,不是一个概念的东西
现阶段,我国光刻机技术已推进至22nm节点,但离商业化还存在一定距离,而国外领先的光刻机已达到5nm EUV(极紫外光刻)水平。
 
 2019年,ASML历时20年研发的EUV光刻机诞生,率先迈入7nm和5nm制程领域,直接奠定了ASML的全球光刻机霸主之位。至此,日本尼康和日本佳能“暗淡”退居二线,集中生产技术和价值量更低的后道光刻机和面板光刻机,前道光刻机彻底被ASML垄断。
 
 此时,我国的量产光刻机还在一整代技术鸿沟对岸的60nm制程,22nm工艺也只是堪堪飘过,未能落地,国内外的技术差距将近20年。
 
 不知道这篇讲的对不对,看原文可以搜索芯片制造“大国重器”背后的九九八十一难,讲半导体相关国产化替代
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